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Nickel-disilicide-assisted excimer laser crystallization of amorphous silicon

文献类型:期刊论文

作者Liao Y. P. ; Shao X. B. ; Gao F. L. ; Luo W. S. ; Wu Y. ; Fu G. Z. ; Jing H. ; Ma K.
刊名Chinese Physics
出版日期2006
卷号15期号:6页码:1310-1314
ISSN号1009-1963
其他题名论文其他题名
合作状况合作性质
收录类别SCI ; EI
语种英语
公开日期2012-10-21
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/26704]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
Liao Y. P.,Shao X. B.,Gao F. L.,et al. Nickel-disilicide-assisted excimer laser crystallization of amorphous silicon[J]. Chinese Physics,2006,15(6):1310-1314.
APA Liao Y. P..,Shao X. B..,Gao F. L..,Luo W. S..,Wu Y..,...&Ma K..(2006).Nickel-disilicide-assisted excimer laser crystallization of amorphous silicon.Chinese Physics,15(6),1310-1314.
MLA Liao Y. P.,et al."Nickel-disilicide-assisted excimer laser crystallization of amorphous silicon".Chinese Physics 15.6(2006):1310-1314.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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