高光谱成像仪的杂散光分析
文献类型:期刊论文
作者 | 王美钦 ; 王忠厚 ; 白加光 |
刊名 | 红外与激光工程
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出版日期 | 2012-06 |
卷号 | 41期号:6页码:1532-1537 |
ISSN号 | 1007-2276 |
合作状况 | 国内 |
中文摘要 | 杂光分析是保证高光谱成像仪成像质量的关键技术之一。详细分析了高光谱成像仪光学系统的杂散光,设计了R-C前置镜的遮光罩和挡光环,并用Tracepro软件对高光谱成像仪光学系统进行了光机建模,分析了系统的一次、二次散射面,根据重要杂散光路径设置重点采用,计算出0.5°~40°不同离轴角度下的点源透射比值,从而得到地球表面反射光在像面产生的照度为5.5×10-3W/m2,小于中心视场光线在像面照度的3.5%,满足系统抑制杂散光的要求。 |
收录类别 | EI |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-12-13 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/20451] ![]() |
专题 | 西安光学精密机械研究所_光学影像学习与分析中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王美钦,王忠厚,白加光. 高光谱成像仪的杂散光分析[J]. 红外与激光工程,2012,41(6):1532-1537. |
APA | 王美钦,王忠厚,&白加光.(2012).高光谱成像仪的杂散光分析.红外与激光工程,41(6),1532-1537. |
MLA | 王美钦,et al."高光谱成像仪的杂散光分析".红外与激光工程 41.6(2012):1532-1537. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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