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屏蔽材料封装CMOS器件的电子辐照损伤

文献类型:期刊论文

作者文林; 郭旗; 张军; 任迪远; 孙静; 郑玉展; 王改丽
刊名核电子学与探测技术
出版日期2009
卷号29期号:2页码:398-401
关键词抗辐射屏蔽材料 CMOS 电子辐照 静态功耗电流
ISSN号0258-0934
其他题名electron-induced damage of cmos with shielded packages
中文摘要为了解决在评估抗辐射屏蔽封装材料的屏蔽效果时,应该以什么参数作为评判依据的问题,对屏蔽材料封装CMOS器件做了一些研究。通过比较有、无屏蔽材料封装CMOS器件在电子辐照下电参数的变化,分析了采用抗辐射屏蔽材料封装的CMOS器件受电子辐照的损伤机理。通过分析,指出了当前屏蔽材料封装存在的不足,以及在采用CMOS器件考察抗辐射屏蔽封装材料时应该重点考虑静态功耗电流。
公开日期2012-11-29
源URL[http://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/1788]  
专题新疆理化技术研究所_材料物理与化学研究室
固体辐射物理研究室
作者单位新疆大学物理科学与技术学院;中国科学院新疆理化技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
文林,郭旗,张军,等. 屏蔽材料封装CMOS器件的电子辐照损伤[J]. 核电子学与探测技术,2009,29(2):398-401.
APA 文林.,郭旗.,张军.,任迪远.,孙静.,...&王改丽.(2009).屏蔽材料封装CMOS器件的电子辐照损伤.核电子学与探测技术,29(2),398-401.
MLA 文林,et al."屏蔽材料封装CMOS器件的电子辐照损伤".核电子学与探测技术 29.2(2009):398-401.

入库方式: OAI收割

来源:新疆理化技术研究所

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