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一种用于制备铜铟硒纳米薄膜材料的旋涂法

文献类型:专利

作者吴科俊,郭国聪,邹建平,邹文强,黄锦顺.
专利国别中国
专利类型发明
权利人吴科俊,郭国聪,邹建平,邹文强,黄锦顺.
中文摘要一种用于制备铜铟硒纳米薄膜材料的旋涂法,涉及一种制备铜铟硒纳米薄膜材料的工艺流程。本方法选择N,N-二甲基甲酰胺(DMF)为分散溶剂,优选参数为:旋浮液浓度0.6mmol/L;低/高阶段旋涂转速与时间分别是500rpm/9s,5000rpm/30s;退火温度与时间为100度2小时。旋涂法不需要高温高真空,对仪器要求低,薄膜的生产成本低,有利于实现大规模的应用化生产。
公开日期2012-11-12
语种中文
专利申请号CN101114679
源URL[http://ir.fjirsm.ac.cn/handle/335002/5022]  
专题福建物质结构研究所_中科院福建物质结构研究所_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
吴科俊,郭国聪,邹建平,邹文强,黄锦顺.. 一种用于制备铜铟硒纳米薄膜材料的旋涂法.

入库方式: OAI收割

来源:福建物质结构研究所

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