一种808nm激发、Li+掺杂KGdF4：Nd3+纳米发光材料及其制备方法
文献类型：专利
| 作者 | 王友法; 罗蕾; 戴红莲 |
| 发表日期 | 2019-10-25 |
| 专利号 | CN106978179B |
| 著作权人 | 武汉理工大学 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 一种808nm激发、Li+掺杂KGdF4：Nd3+纳米发光材料及其制备方法 |
| 英文摘要 | 本发明公开了一种808nm、Li+掺杂KGdF4：Nd3+纳米发光材料，其化学式为：K1‑xLixGdF4:Nd3+，0≤x≤100％。本发明通过油酸盐路径法制备得到不同浓度Li+掺杂KGdF4：Nd3+纳米发光材料，该材料具有高度分散、大小均一、物相纯度高等优点，整个制备工艺简单易操作，大大降低了多色发光材料的制备成本，并且制备过程绿色环保，特别适合批量生产。该材料表面包裹有一层油酸，与乙醇有较高亲和力，利于分散和进一步表面改性，在808nm半导体激光器的激励下显著增强了Nd3+的发光强度，使其在固体激光器、太阳能电池、红外辐射探测和生物医学成像等领域具有较大的潜在应用价值。 |
| 公开日期 | 2019-10-25 |
| 申请日期 | 2017-03-31 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/32168]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 武汉理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王友法,罗蕾,戴红莲. 一种808nm激发、Li+掺杂KGdF4：Nd3+纳米发光材料及其制备方法. CN106978179B. 2019-10-25. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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