光走査装置および画像形成装置
文献类型：专利
| 作者 | 宮武 直樹; 大杉 友哉; 高梨 健一; 酒井 浩司 |
| 发表日期 | 2010-09-03 |
| 专利号 | JP4579260B2 |
| 著作权人 | 株式会社リコー |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 光走査装置および画像形成装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 副走査方向についての光ビームのビームスポット間隔を含む光ビームの良好な調整位置精度、およびその調整に伴うビームスポット径の変動が少なく、安定したビームスポット径を維持して、光量変動が少ないマルチビーム光源装置を実現する。 【解決手段】 2個の半導体レーザ1001、1002は、主走査方向に沿って光源保持部材1005に固定されており、その前方には、2個のカップリングレンズ1003、1004が、上記光源保持部材1005に対し、回転可能に取り付けられる。このカップリングレンズ1003、1004の回転に伴って、シフト量の値が連続的に変化するので、所望の変化量となるようにカップリングレンズの回転量を決めることができる。副走査方向のビームスポット間隔を調整する際に、半導体レーザ1001、1002を回転させることなく、副走査方向のビームスポット間隔の良好な調整が可能である。 【選択図】図24 |
| 公开日期 | 2010-11-10 |
| 申请日期 | 2007-02-23 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/32637]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社リコー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宮武 直樹,大杉 友哉,高梨 健一,等. 光走査装置および画像形成装置. JP4579260B2. 2010-09-03. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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