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レーザ加工装置及びレーザ加工方法

文献类型:专利

作者佐保田 英司
发表日期2013-06-14
专利号JP5286485B2
著作权人株式会社日立情報通信エンジニアリング
国家日本
文献子类授权发明
其他题名レーザ加工装置及びレーザ加工方法
英文摘要【課題】レーザ光学系の焦点合わせ位置の移動や設計目標仕様を大幅に変更することない穴開け加工装置の提供。 【解決手段】複数の半導体レーザ素子10a〜10cから発光した複数のレーザ光を受光面において入射し、該入射したレーザ光を所定の屈折特性によって集光したレーザスポットを被加工物に照射するレンズ14と、該レンズ14の受光面に対するレーザ光の入射角度を任意の角度に偏向して出射するレンズ12a〜12cとを備え、レーザ光偏向手段であるレンズ12a〜12cが、レンズ14から出射した複数のレーザスポットS01〜S03の合焦点位置を、被加工物の所定座標における深さが異なる複数位置になるようにレーザビームL01〜L03の光の出射角度を偏向させ、制御部15が、レーザスポットS01〜S03の合焦点位置が被加工物20の表面から深くなる順にレーザ発光素子を発光させるもの。 【選択図】図1
公开日期2013-09-11
申请日期2008-11-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/32749]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社日立情報通信エンジニアリング
推荐引用方式
GB/T 7714
佐保田 英司. レーザ加工装置及びレーザ加工方法. JP5286485B2. 2013-06-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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