光ディスク装置及び光ディスク記録方法
文献类型：专利
| 作者 | 浅田 昭広; 榑林 正明 |
| 发表日期 | 2010-03-12 |
| 专利号 | JP4474490B2 |
| 著作权人 | 株式会社日立製作所 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 光ディスク装置及び光ディスク記録方法 |
| 英文摘要 | (修正有) 【課題】高周波成分を重畳することで戻り光によるノイズを低減する方法を用いた光ディスク装置において、データ記録の際には高周波成分の影響を少なくできる記録方法/光ディスク装置を提供する。 【解決手段】マーク形成用半導体レーザ駆動電流の開始タイミングおよび終了タイミングに対して所定時間先行して高周波成分の重畳を停止し、さらに所定時間後に高周波成分の重畳を開始する高周波重畳制御手段を設けた。これにより高周波成分の重畳によるマーク始端および終端のディスク上の変動を避けることができる。この結果高速記録におけるジッタ劣化を防止することが可能となる。 【選択図】図9 |
| 公开日期 | 2010-06-02 |
| 申请日期 | 2009-08-10 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/32791]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社日立製作所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 浅田 昭広,榑林 正明. 光ディスク装置及び光ディスク記録方法. JP4474490B2. 2010-03-12. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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