薄膜形成装置およびこの薄膜形成装置を用いたアパタイト薄膜形成方法
文献类型：专利
| 作者 | 本津 茂樹; 西川 博昭; 楠 正暢; 吉川 一志; 山本 一世 |
| 发表日期 | 2017-11-17 |
| 专利号 | JP6243678B2 |
| 著作权人 | 学校法人近畿大学 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 薄膜形成装置およびこの薄膜形成装置を用いたアパタイト薄膜形成方法 |
| 英文摘要 | (修正有) 【課題】骨や歯などの硬組織に薄膜(特にアパタイト薄膜)を形成するための薄膜形成装置を提供する。 【解決手段】薄膜形成装置は、ErーYAGレーザー、ErーCrーYSGGレーザー、Nd-YAGレーザー、半導体レーザーから選択されるいずれか1つからなるレーザーを照射ノズル5から照射するレーザー照射手段2と、レーザー照射手段2からのレーザーの照射を受けるターゲット部材3と、ターゲット部材3を保持するターゲット保持手段4を備え、ターゲット保持手段4は、照射ノズル5の先端縁7の一部または全部とターゲット部材3との間隔を0.2~20mm離間させ、かつ照射ノズル5から照射されるレーザーがターゲット部材3に衝突することによってターゲット部材3から飛散する物質が対象物に堆積される角度となるように、ターゲット部材3を保持する。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2017-12-06 |
| 申请日期 | 2013-09-20 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/33030]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 学校法人近畿大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 本津 茂樹,西川 博昭,楠 正暢,等. 薄膜形成装置およびこの薄膜形成装置を用いたアパタイト薄膜形成方法. JP6243678B2. 2017-11-17. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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