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マルチビーム走査装置及び画像形成装置

文献类型:专利

作者中島 智宏
发表日期2008-03-07
专利号JP4090685B2
著作权人株式会社リコー
国家日本
文献子类授权发明
其他题名マルチビーム走査装置及び画像形成装置
英文摘要【課題】 複数個の半導体レーザアレイを組合せるマルチビーム光源装置を用いる方式の利点を活かし、必ずしも飛び越し走査を必要とせずに、発光点間隔を近接させずに、熱クロストークによる光量変動を抑え高密度·高品位な画像が得られるマルチビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 直線上に複数個の発光点を配列してなる半導体レーザアレイ1,2とコリメートレンズ3,4とを対として複数対配設させたマルチビーム光源装置を用いるマルチビーム走査装置において、発光点から結像点に至るまでの走査光学系19全系の副走査方向の幾何学的な横倍率βが、β=P·n·k/ds(ここで、kは正の整数)を満たすようにアレイ数n又は整数kの値を適宜設定することで、半導体レーザアレイ1,2の発光点の間隔を狭めずに記録密度を向上でき、熱クロストークの影響を受けずに安定した光量制御が行なえ高品位な画像出力が可能となる。
公开日期2008-05-28
申请日期2000-12-13
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/33713]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社リコー
推荐引用方式
GB/T 7714
中島 智宏. マルチビーム走査装置及び画像形成装置. JP4090685B2. 2008-03-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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