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合波レ-ザ光量調節方法および装置

文献类型:专利

作者水本 学; 中谷 大輔
发表日期2009-02-27
专利号JP4267411B2
著作权人富士フイルム株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名合波レ-ザ光量調節方法および装置
英文摘要【課題】 合波レ-ザ光量調節方法および装置において、合波レーザ光の光量の正確な調節とこの合波レーザ光を射出する各レーザ光源の適切な負荷での駆動とを両立させる。 【解決手段】 複数のレーザ光源110から射出され合波された合波レーザ光を測定して得られるこの合波レーザ光の光量値が目標合波光量値となるように、各レーザ光の光量に対応する各個別目標光量値を定め、個別光調節部150により、各レーザ光源110から射出される各レーザ光を個別に光量測定部140で測定して得られる光量値が上記各個別目標光量値に一致するように各レーザ光の光量それぞれを個別に調節し、その後、各レーザ光を合波してなる合波レーザ光の光量を光量測定部140で測定して合波光量値を得、合波光調節部160により、上記合波光量値を目標合波光量値に一致させるように、さらに、各レーザ光の光量を調節する。 【選択図】図1
公开日期2009-05-27
申请日期2003-09-08
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/33862]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位富士フイルム株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
水本 学,中谷 大輔. 合波レ-ザ光量調節方法および装置. JP4267411B2. 2009-02-27.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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