発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置
文献类型：专利
| 作者 | 廣居 正樹 |
| 发表日期 | 2014-03-14 |
| 专利号 | JP5493293B2 |
| 著作权人 | 株式会社リコー |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置 |
| 英文摘要 | 【課題】面発光型半導体レーザの2次元アレイ素子を位置精度よく取付けし、発光源から射出される光ビームの射出角を容易に補正することができる発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置を提供する。 【解決手段】複数の発光素子が同一平面に垂直に光ビームを出射するように配列された発光素子アレイ245が、パッケージ246の主面301に垂直な光ビームを出射するようにパッケージ246に収容してなる発光装置201であって、発光装置201を取付ける取付部材にパッケージ246が当接されて取付けられる際の光ビームの光軸方向を補正するために、パッケージ246の取付部材側の面の複数の箇所に、光軸方向を補正する角度に応じた高低差を有する複数の凸部312が設けられることを特徴とする発光装置201、及びこの発光装置201を用いたマルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置。 【選択図】図6 |
| 公开日期 | 2014-05-14 |
| 申请日期 | 2008-05-22 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34016]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社リコー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 廣居 正樹. 発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置. JP5493293B2. 2014-03-14. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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