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レーザ加工装置およびレーザ加工方法

文献类型:专利

作者大垣 龍男; 福井 浩; 岡林 隆文; 石津 雄一
发表日期2015-04-10
专利号JP5724173B2
著作权人オムロン株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名レーザ加工装置およびレーザ加工方法
英文摘要【課題】装置の大型化および構成の複雑化を回避しつつ、所望の加工のためのレーザ光(パルス列)を出力可能なレーザ加工装置、およびそのレーザ加工装置を用いたレーザ加工方法を提供する。 【解決手段】レーザ加工装置100は、シード光を発するシードLD2と、励起光を発する励起LD3と、シード光および励起光が入射されることによってシード光を増幅するように構成された光ファイバ1,8とを備える。シードLD2は、シード光として、複数の光パルスを含むパルス列を繰返し発生させる。複数の光パルスの間の時間間隔は、パルス列同士の間隔よりも短い。さらに、光パルスの数、パルス幅、振幅および間隔の少なくとも1つが可変である。 【選択図】図1
公开日期2015-05-27
申请日期2009-11-16
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34047]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位オムロン株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
大垣 龍男,福井 浩,岡林 隆文,等. レーザ加工装置およびレーザ加工方法. JP5724173B2. 2015-04-10.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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