面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置
文献类型：专利
| 作者 | 伊藤 彰浩; 原坂 和宏; 佐藤 俊一; 軸谷 直人 |
| 发表日期 | 2016-05-13 |
| 专利号 | JP5929259B2 |
| 著作权人 | 株式会社リコー |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
| 英文摘要 | 【課題】高い単一基本モード出力で偏光安定性をもち、等方性の高いビーム断面形状で、ビーム発散角の小さく、高い歩留で安定して製造することができる面発光レーザを提供する。 【解決手段】 面発光レーザアレイの各発光部は、z軸方向からみたとき、射出領域が、中心部を含み相対的に反射率が高い第1半導体表面構造体領域116Bと、相対的に反射率の低い第2半導体表面構造体領域116Aとを有している。そして、各発光部における電流狭窄領域108bの形状は、z軸方向からみたとき、y軸方向に平行で中心を通る長さが、x軸方向に平行で中心を通る長さよりも短い形状である。また、各発光部における第1半導体表面構造体領域116Bの形状は、z軸方向からみたとき、y軸方向に平行で中心を通る長さが、x軸方向に平行で中心を通る長さよりも長い形状である。 【選択図】図7 |
| 公开日期 | 2016-06-01 |
| 申请日期 | 2012-02-02 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34111]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社リコー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 伊藤 彰浩,原坂 和宏,佐藤 俊一,等. 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置. JP5929259B2. 2016-05-13. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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