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ライティング装置

文献类型:专利

作者ペカルスキー,パヴェル; グローネンボーン,シュテファン
发表日期2017-04-07
专利号JP6122036B2
著作权人コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
国家日本
文献子类授权发明
其他题名ライティング装置
英文摘要当該発明は、交差平面において交差するエッジ(5)を備えた放出の円錐(4)を放出する光源(3)のアレイ(2)及びファーフィールドにおける強度分布を均質化するためのレンズユニット(7)を具備するライティング装置(1)に関係する。光源のアレイ及びレンズユニットは、i)放出の円錐がレンズユニットを横切ると共にii)光源のアレイ及びレンズユニットの間における距離(s)が20パーセント又はより少ない分だけa)レンズユニットの焦点距離並びにb)交差平面及び光源(3)のアレイ(2)の間における距離の和又はそれらの間における差からはずれるように配置される。この構成は、ファーフィールドにおける強度分布が実質的に均質なものであるようにファーフィールドにおける放出の円錐の混合に至る。
公开日期2017-04-26
申请日期2013-02-22
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34160]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
推荐引用方式
GB/T 7714
ペカルスキー,パヴェル,グローネンボーン,シュテファン. ライティング装置. JP6122036B2. 2017-04-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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