面発光レーザ素子の製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 庄子 浩義; 佐藤 俊一; 伊藤 彰浩; 原坂 和宏 |
| 发表日期 | 2015-12-11 |
| 专利号 | JP5850075B2 |
| 著作权人 | 株式会社リコー |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 面発光レーザ素子の製造方法 |
| 英文摘要 | 【課題】発振横モードを制御しつつ、電流通過領域の中心に対する光学フィルタの重心の位置ずれ量の大きさが0.1μm以下の面発光レーザ素子を安定的に量産する。 【解決手段】 積層体の上面に、光学的厚さがλ/4の誘電体層111aを積層し、その上面に、メサ構造体の外形を規定するレジストパターン120a及び出射領域における反射率が低い部分に対応する領域を保護するレジストパターン120bを形成·硬化させた後、誘電体層111aをエッチングする。次に、出射領域の全体に対応する領域を保護する第2のレジストパターン123を形成し、第1のレジストパターン及び第2のレジストパターンをエッチングマスクとして積層体をエッチングし、メサ構造体を形成する。そして、被選択酸化層を選択的に酸化させ、酸化物が電流通過領域を取り囲んでいる狭窄構造体を作成し、積層体の上面に、光学的厚さが2λ/4の誘電体層を積層する。 【選択図】図3 |
| 公开日期 | 2016-02-03 |
| 申请日期 | 2014-04-02 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/34208]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社リコー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 庄子 浩義,佐藤 俊一,伊藤 彰浩,等. 面発光レーザ素子の製造方法. JP5850075B2. 2015-12-11. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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