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具有抑制背反射杂光的光学次模块结构

文献类型:专利

作者陈文宗; 杨建成; 张俊杰; 李俊德; 张志贤; 陈正大; 彭保仁
发表日期2008-02-06
专利号CN100367056C
著作权人创威光电股份有限公司
国家中国
文献子类授权发明
其他题名具有抑制背反射杂光的光学次模块结构
英文摘要本发明涉及一种具有抑制背反射杂光的光学次模块结构,该结构包括:一光源,发射光束;一光波导,接收光源的光束,使该核芯层再将光束继续向前传送;以及一耦光模块,由至少一个可透光组件构成,此耦光模块置于光源与光波导中间,使光束穿过该耦光模块而有效地耦合至该光波导核芯层中,并且有抑制背反射杂光的功能;本发明的光学次模块结构可大幅改善光学次模块本身的光电特性品质、增加其传输距离、大幅降低光收发器在封装上的困难,还可有效降低其生产成本。
公开日期2008-02-06
申请日期2003-03-14
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/38999]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位创威光电股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
陈文宗,杨建成,张俊杰,等. 具有抑制背反射杂光的光学次模块结构. CN100367056C. 2008-02-06.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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