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光学元件的密封结构体、光耦合器及光学元件的密封方法

文献类型:专利

作者藤田英明; 岩木哲男; 石井赖成
发表日期2008-11-05
专利号CN100431181C
著作权人夏普株式会社
国家中国
文献子类授权发明
其他题名光学元件的密封结构体、光耦合器及光学元件的密封方法
英文摘要本发明的目的在于提供一种耐环境性佳、且可小型化的光学元件的密封结构体。具有透光部(38)的导线框(30)上形成有:光学元件(22),以光学面(41)与透光部(38)相对、且盖住透光部(38)的轴线方向一端部(48)的形态承载在导线框(30)上;以及形成在除光路(80)以外的区域、对光学元件(22)进行密封的密封体(29)。由于在除光路(80)以外的区域形成密封体(29),故即使向密封体中添加提高耐环境性用的物质,也可防止光利用效率的降低。另外,由于以面朝下的配置状态将光学元件(22)承载在导线框(30)上,从而即使光学元件(22)小型化,也可容易地形成密封结构体(20)。
公开日期2008-11-05
申请日期2004-10-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39044]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位夏普株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
藤田英明,岩木哲男,石井赖成. 光学元件的密封结构体、光耦合器及光学元件的密封方法. CN100431181C. 2008-11-05.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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