光集積回路の製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 平田 隆昭; 日原 衛; 末広 雅幸; 前田 稔; 細松 春夫 |
| 发表日期 | 1999-01-08 |
| 专利号 | JP2869875B2 |
| 著作权人 | 光計測技術開発 株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 光集積回路の製造方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 能動素子と導波路とが少なくとも一つの結晶成長層を共用する光集積回路の導波路損失を低減する。 【構成】 能動素子としてアンドープの結晶成長層で動作するものを用い、導波路をアンドープの結晶成長層で形成する。 |
| 公开日期 | 1999-03-10 |
| 申请日期 | 1991-02-20 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39083]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 光計測技術開発 株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 平田 隆昭,日原 衛,末広 雅幸,等. 光集積回路の製造方法. JP2869875B2. 1999-01-08. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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