使光均匀化的装置和用于在工作面内产生线性光强分布的激光装置
文献类型：专利
| 作者 | T·米特拉; A·拜耶尔; H·冈瑟尔; T·斯坦因布鲁克 |
| 发表日期 | 2013-09-04 |
| 专利号 | CN101490597B |
| 著作权人 | LIMO专利管理有限及两合公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 使光均匀化的装置和用于在工作面内产生线性光强分布的激光装置 |
| 英文摘要 | 本发明涉及一种用于使光均匀化的装置，其包括具有多个透镜(6，9，10)的透镜阵列(5，7，8)，要被均匀化的光可穿过这些透镜，其中透镜阵列(5，7，8)中的透镜(6，9，10)具有至少两种不同的中心间距，所述透镜(6，9，10)的中心间距从里向外增大，并且能产生梯形光强分布。此外本发明还涉及用于在工作面内产生线性光强分布的激光装置，它具有这种使光均匀化的装置。 |
| 公开日期 | 2013-09-04 |
| 申请日期 | 2007-06-26 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39143]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | LIMO专利管理有限及两合公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | T·米特拉,A·拜耶尔,H·冈瑟尔,等. 使光均匀化的装置和用于在工作面内产生线性光强分布的激光装置. CN101490597B. 2013-09-04. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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