基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置
文献类型：专利
| 作者 | 丁晨良; 魏劲松; 周奇军 |
| 发表日期 | 2017-11-14 |
| 专利号 | CN105355217B |
| 著作权人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置 |
| 英文摘要 | 一种基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置，包括第一激光器、第二激光器、第一1/2波片、第二1/2波片、第一扩束镜、第二扩束镜、第一分光镜、第二分光镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、聚焦透镜、三棱镜，第一探测器和第二探测器，本发明将两束不同波长的光耦合到同一束光中，通过聚焦透镜产生轴向色差，聚焦于轴向不同位置，即光刻材料不同厚度处，实现轴向双焦点同时光刻。本发明可实现双光束同时存储，将存储的速度增加一倍，也将存储信息提高一倍，为多层光存储技术的推广运用提供基础。本发明还具有实时读取刻写信号系统，确保刻写的准确度。 |
| 公开日期 | 2017-11-14 |
| 申请日期 | 2015-09-29 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39613]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 丁晨良,魏劲松,周奇军. 基于聚焦透镜轴向色差的双光束并行刻写装置. CN105355217B. 2017-11-14. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。