一种用于荧光分析仪的光斑整形光学系统
文献类型：专利
| 作者 | 杨征; 邱梦春; 林吉君 |
| 发表日期 | 2017-04-05 |
| 专利号 | CN206074449U |
| 著作权人 | 杭州凯珥医疗科技有限公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 实用新型 |
| 其他题名 | 一种用于荧光分析仪的光斑整形光学系统 |
| 英文摘要 | 本实用新型提供一种用于荧光分析仪的光斑整形光学系统，用于对位于检测区的物质进行荧光分析，包括：光源，用于发出入射光；光斑整形透镜，用于将所述入射光进行光斑整形，形成与所述检测区形状相匹配的检测光斑；所述检测光斑投射至检测区，激发检测区的荧光物质形成荧光；荧光接收光路，用于接收并感测所述荧光。本实用新型中光源发出的大部分光可以透过光斑整形透镜进而到达检测区，提高了光源的光利用率，在同等光源发光条件下，与对入射光进行遮挡的方案相比，本实用新型实际到达检测区的光强更强，可以有效提高荧光分析仪的灵敏度。 |
| 公开日期 | 2017-04-05 |
| 申请日期 | 2016-08-12 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/39669]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 杭州凯珥医疗科技有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨征,邱梦春,林吉君. 一种用于荧光分析仪的光斑整形光学系统. CN206074449U. 2017-04-05. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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