Microwave enhanced CVD system under magnetic field
文献类型：专利
| 作者 | YAMAZAKI, SHUNPEI |
| 发表日期 | 1996-04-30 |
| 专利号 | US5512102 |
| 著作权人 | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
| 国家 | 美国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | Microwave enhanced CVD system under magnetic field |
| 英文摘要 | An improved chemical vapor deposition or etching is shown in which cyclotron resonance and photo or plasma CVD cooperate to deposit a layer with high performance at a high deposition speed. The high deposition speed is attributed to the cyclotron resonance while the high performance is attributed to the CVDs. |
| 公开日期 | 1996-04-30 |
| 申请日期 | 1994-03-28 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40112]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | YAMAZAKI, SHUNPEI. Microwave enhanced CVD system under magnetic field. US5512102. 1996-04-30. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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