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光束整形装置

文献类型:专利

作者杨立梅; 黄伟; 李丰; 张巍巍
发表日期2018-03-16
专利号CN207114901U
著作权人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
国家中国
文献子类实用新型
其他题名光束整形装置
英文摘要本实用新型提供一种光束整形装置,包括光源、依次远离光源并设置于光源的出射光路上的第一透镜阵列、第二透镜阵列、光束整形器、光束聚焦器和第一光纤,光源包括多个阵列设置的半导体激光器,第一透镜阵列包括多个阵列设置的第一透镜,第一透镜与半导体激光器一一正对对应,第二透镜包括多个阵列设置的第二透镜,第二透镜与第一透镜一一正对对应;光源位于第一透镜阵列的前焦平面,第一透镜阵列的后焦平面与第二透镜阵列的前焦平面重合。第一透镜阵列对光源在快轴方向上的光进行准直,第二透镜阵列对光源在慢轴方向上的光进行准直,通过对光源在慢轴方向上的光进行准直,减少了由于慢轴方向上的发散在侧面引起的损耗,从而提高了整形效率。
公开日期2018-03-16
申请日期2017-06-19
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40542]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
杨立梅,黄伟,李丰,等. 光束整形装置. CN207114901U. 2018-03-16.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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