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一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置

文献类型:专利

作者邹文龙; 李朝明; 陈新荣; 蔡志坚; 吴建宏
发表日期2018-06-19
专利号CN207515999U
著作权人苏州大学
国家中国
文献子类实用新型
其他题名一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置
英文摘要本实用新型公开了一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置,包括半导体激光器、斩波器、检测光系统、参考光系统和光电探测装置,装置的核心功能:采用多个波长的半导体激光器入射到金属介质膜光栅表面,检测光系统采集‑1级衍射光,并通过二维扫描大面积金属介质膜光栅,完成整个光栅面的衍射效率的测量。本新装置采用了双光路检测和斩波器,抑制激光器功率漂移和环境背景光干扰。
公开日期2018-06-19
申请日期2017-11-27
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/40954]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位苏州大学
推荐引用方式
GB/T 7714
邹文龙,李朝明,陈新荣,等. 一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置. CN207515999U. 2018-06-19.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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