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用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统

文献类型:专利

作者王春; 张伯阳; 王剑磊
发表日期2018-07-10
专利号CN207602982U
著作权人张家港市顶峰激光科技有限公司
国家中国
文献子类实用新型
其他题名用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统
英文摘要本实用新型公开了一种用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统,属于激光技术领域,其特点是将4路激光叠阵在空间上通过周期性空间耦合镜有效叠加成两组合并起来输出高功率线偏振光以方便加入反馈光隔离系统,激光输出光斑大小和横截面形状可调,可以满足激光熔覆应用需求。
公开日期2018-07-10
申请日期2017-09-18
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/41059]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位张家港市顶峰激光科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王春,张伯阳,王剑磊. 用于激光熔覆的空间叠加高功率半导体激光叠阵系统. CN207602982U. 2018-07-10.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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