回折格子の形成方法
文献类型：专利
| 作者 | 國次 恭宏 |
| 发表日期 | 1998-01-16 |
| 专利号 | JP2738623B2 |
| 著作权人 | 三菱電機株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 回折格子の形成方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 工程数の少ないλ/4シフト型の回折格子を形成する方法を得る。 【構成】 基板上に塗布するポジ型レジストの膜厚の高さ位置を、レジスト内に発生する光強度分布の膜厚方向での節の近傍(120±20nm)に合わせる。次に二光束干渉露光法で露光し、現像すると、レジストの表面層が難溶な領域となり、オーバーハング形状のレジストパターン7aが形成される。その後、絶縁膜4を成膜し基板表面の選択的エッチング,選択的なリフトオフ,残った基板表面のエッチングを行うことにより、位相反転領域を形成し、λ/4シフト型の回折格子を形成する。 【効果】 レジストと基板とのエッチングレートの違いを利用した工程を省くことができ、工程数の削減が図れるとともに安定した形成工程が得られる。 |
| 公开日期 | 1998-04-08 |
| 申请日期 | 1992-04-23 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/41729]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 三菱電機株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 國次 恭宏. 回折格子の形成方法. JP2738623B2. 1998-01-16. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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