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窒化ガリウム系化合物半導体レーザ

文献类型:专利

作者小野村 正明; 波多腰 玄一; 布上 真也; 石川 正行
发表日期2007-04-20
专利号JP3946337B2
著作权人株式会社東芝
国家日本
文献子类授权发明
其他题名窒化ガリウム系化合物半導体レーザ
英文摘要【課題】活性層へキャリア注入を効率的に且つ均一に行うと共に基本横モード以外の高次モードを抑制することができ、低閾値電流、低動作電圧、低雑音特性で連続発振する信頼性の高い窒化物化合物半導体レーザを提供すること。 【解決手段】サファイア基板101上に、活性層105を導電型の異なる半導体層で挟んだ半導体レーザにおいて、p側電極109と共にメサ型に形成された電流挙窄構造の側面にはポリイミド111の電流ブロックと光閉じ込めのための構造が形成されている。
公开日期2007-07-18
申请日期1998-02-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/41844]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社東芝
推荐引用方式
GB/T 7714
小野村 正明,波多腰 玄一,布上 真也,等. 窒化ガリウム系化合物半導体レーザ. JP3946337B2. 2007-04-20.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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