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双波长半导体激光装置及其制造方法

文献类型:专利

作者粂雅博; 高山彻; 高须贺祥一; 木户口勋
发表日期2011-11-16
专利号CN101394065B
著作权人松下电器产业株式会社
国家中国
文献子类授权发明
其他题名双波长半导体激光装置及其制造方法
英文摘要本发明提供一种双波长半导体激光装置及其制造方法,其可以抑制由掺杂剂的扩散引起的不良状况的产生。本发明的双波长半导体激光装置,在化合物半导体构成的基板(10)上,堆积第1半导体激光元件(1)和第2半导体激光元件(2),将所述第1半导体激光元件(1)的蚀刻阻止层(15)的构成材料用和第2半导体激光元件(2)的蚀刻阻止层(25)的构成材料相比杂质不易扩散的材料。
公开日期2011-11-16
申请日期2008-09-19
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42581]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下电器产业株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
粂雅博,高山彻,高须贺祥一,等. 双波长半导体激光装置及其制造方法. CN101394065B. 2011-11-16.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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