在光记录介质中记录数据的方法和装置,及光记录介质
文献类型：专利
| 作者 | 加藤达也; 平田秀树 |
| 发表日期 | 2007-02-14 |
| 专利号 | CN1300783C |
| 著作权人 | TDK株式会社 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 在光记录介质中记录数据的方法和装置,及光记录介质 |
| 英文摘要 | 根据本发明，用于将数据记录在光记录介质中的方法构造成在通过包括衬底、第一记录层、第二记录层和光透射层的光记录介质上，由根据脉冲串模式调制其功率的激光束记录数据以便形成记录标记，其中记录脉冲被划分成(n-1)个划分脉冲，在每个划分脉冲的峰值处激光束的功率设置成记录功率Pw，以及设置成第一最低功率Pb1，将记录功率Pw和第一最低功率Pb1的电平确定成第一最低功率Pb1与记录功率Pw的比Pb1/Pw落在0.1至0.5的范围内。当使用这种脉冲串模式来调制激光束的功率以便将数据记录在光记录介质中时，即使在以高线记录速度将数据记录在光记录介质中的情况下，可使用具有低输出的半导体激光器，以高线记录速度将数据记录在光记录介质中。 |
| 公开日期 | 2007-02-14 |
| 申请日期 | 2003-05-19 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42781]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | TDK株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 加藤达也,平田秀树. 在光记录介质中记录数据的方法和装置,及光记录介质. CN1300783C. 2007-02-14. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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