光强度分布测量方法及光强度分布测量装置
文献类型：专利
| 作者 | 酒井博 |
| 发表日期 | 2006-08-30 |
| 专利号 | CN1272774C |
| 著作权人 | 日本电产三协株式会社 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 光强度分布测量方法及光强度分布测量装置 |
| 英文摘要 | 一种能更正确地求得从半导体激光器射出的激光束的光强度分布的光强度分布测量方法及光强度分布测量装置，光强度分布测量装置(10)是用来测量从半导体激光器射出的激光束的光强度的光强度检测装置(12)，具有用来测量从半导体激光器(11)射出的激光束与对该光强度检测装置(12)的测量结果用t分布函数算出光强度分布的数据处理装置(13)。 |
| 公开日期 | 2006-08-30 |
| 申请日期 | 2003-12-05 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/42926]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日本电产三协株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 酒井博. 光强度分布测量方法及光强度分布测量装置. CN1272774C. 2006-08-30. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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