静电场激励液-液体系相间铜反萃传质特性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 纪存兴 ; 石磊 ; 李金英 ; 赵志军 ; 侯艳丽 ; 唐占梅 ; 李中平 ; 凡金龙 ; 张东翔 |
| 刊名 | 原子能科学技术
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| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 44期号:8页码:953-957 |
| 关键词 | 传质 静电场 界面反应 铜 |
| 中文摘要 | 在改进的传质池中通过在线检测草酸浓度,应用瞬时传质系数与平均传质系数,研究了各种方向及组合、不同电压、电极板形状与面积等条件下静电场对体系Cu2+-HDEHP-CCl4/H2O-H2C2O4伴随生成CuC2O4的传质过程特性。外场电压变化、电极面积可改变相间的传质速率,与传质方向成45°夹角的静电场作用对相界面传质速率的影响更为显著,表明相间传质阻力结构或相间传质层具有各向异性。 |
| 公开日期 | 2012-10-17 |
| 源URL | [http://ir.lig.ac.cn/handle/132962/1038]  |
| 专题 | 兰州油气资源研究中心_分析测试部_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 纪存兴,石磊,李金英,等. 静电场激励液-液体系相间铜反萃传质特性[J]. 原子能科学技术,2010,44(8):953-957. |
| APA | 纪存兴.,石磊.,李金英.,赵志军.,侯艳丽.,...&张东翔.(2010).静电场激励液-液体系相间铜反萃传质特性.原子能科学技术,44(8),953-957. |
| MLA | 纪存兴,et al."静电场激励液-液体系相间铜反萃传质特性".原子能科学技术 44.8(2010):953-957. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州油气资源研究中心
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