电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布
文献类型:期刊论文
作者 | 李帅辉![]() ![]() ![]() |
刊名 | 中国科学. E辑, 技术科学
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出版日期 | 2008-07-15 |
卷号 | 38期号:7页码:1105-1117 |
通讯作者邮箱 | lee@imech.ac.cn |
关键词 | 电子束物理气相沉积 薄膜 厚度和组分分布 蒸气原子 非平衡输运 |
ISSN号 | 1006-9275 |
通讯作者 | 李帅辉 |
中文摘要 | 大面积薄膜的组分和厚度分布是实际工艺中最为关心的问题之一.利用实验和直接模拟Monte Carlo(DSMC)方法,分别研究了双电子束和三电子束物理气相沉积(EBPVD)中,钇和钛蒸气原子的三维低密度、非平衡射流,获得了它们在100和150mm单晶硅基片表面的沉积厚度和组分的分布.DSMC结果与钇和钛的蒸发速率的石英晶振探头原位测量值,沉积薄膜厚度分布的台阶仪和Rutherford背散射仪的测量数据,沉积薄膜组分分布的Rutherford背散射仪和电感耦合等离子体原子发射光谱仪测量值,均相符甚好.这表明通过DSMC方法与精细测量相结合,可在原子水平上实现EBPVD输运工艺的定量预测和设计。 |
收录类别 | CSCD |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:3388860 |
公开日期 | 2009-08-03 ; 2010-08-20 |
源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/40344] ![]() |
专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李帅辉,舒勇华,樊菁. 电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布[J]. 中国科学. E辑, 技术科学,2008,38(7):1105-1117. |
APA | 李帅辉,舒勇华,&樊菁.(2008).电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布.中国科学. E辑, 技术科学,38(7),1105-1117. |
MLA | 李帅辉,et al."电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布".中国科学. E辑, 技术科学 38.7(2008):1105-1117. |
入库方式: OAI收割
来源:力学研究所
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