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离子钨钼共渗的表观过程

文献类型:期刊论文

作者李成明; 赵晋香; 田林海; 王建明; 徐重; 郑维能
刊名材料科学与工艺
出版日期2000-03-30
卷号8期号:1页码:55
关键词离子轰击 渗层厚度 表面成分 等离子体密度
ISSN号1005-0299
通讯作者李成明
中文摘要结果表明,在形成沉积层时,由于离子轰击作用已不存在,使渗层厚度减少26%,用朗谬尔探针对双层辉光离子钨钼共渗过程进行了等离子体的诊断,等离子体对表面成分有较大影响.合理的等离子体密度范围为5×10~(11)~3×10~(12)cm~(-3).
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:547841
公开日期2009-08-03 ; 2010-08-20
源URL[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/40804]  
专题力学研究所_力学所知识产出(1956-2008)
推荐引用方式
GB/T 7714
李成明,赵晋香,田林海,等. 离子钨钼共渗的表观过程[J]. 材料科学与工艺,2000,8(1):55.
APA 李成明,赵晋香,田林海,王建明,徐重,&郑维能.(2000).离子钨钼共渗的表观过程.材料科学与工艺,8(1),55.
MLA 李成明,et al."离子钨钼共渗的表观过程".材料科学与工艺 8.1(2000):55.

入库方式: OAI收割

来源:力学研究所

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