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氢促进位错发射的分子动力学模拟

文献类型:期刊论文

作者周国辉; 周富信; 赵雪丹; 张文清; 陈难先; 万发荣; 褚武扬
刊名中国科学. E辑, 技术科学
出版日期1998-02-15
卷号28期号:1页码:1
关键词 位错发射 分子动力学 计算机模拟
ISSN号1006-9275
通讯作者周国辉
中文摘要利用第一原理和陈氏三维晶格反演公式获得了Al和H的互作用对势。分子动力学计算表明,当Al晶体中含H时,裂尖发射位错的临界应力强度因子从0.11MPam~(1/2)降低为0.075MPam~(1/2)(C_H=0.72%)和0.06MPam~(1/2)(C_H=1.44%),即氢促进了位错的发射。计算表明,氢在裂尖富集后能形成许多小气团,同时使平衡空位浓度升高。
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:476400
公开日期2009-08-03 ; 2010-08-20
源URL[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/40954]  
专题力学研究所_力学所知识产出(1956-2008)
推荐引用方式
GB/T 7714
周国辉,周富信,赵雪丹,等. 氢促进位错发射的分子动力学模拟[J]. 中国科学. E辑, 技术科学,1998,28(1):1.
APA 周国辉.,周富信.,赵雪丹.,张文清.,陈难先.,...&褚武扬.(1998).氢促进位错发射的分子动力学模拟.中国科学. E辑, 技术科学,28(1),1.
MLA 周国辉,et al."氢促进位错发射的分子动力学模拟".中国科学. E辑, 技术科学 28.1(1998):1.

入库方式: OAI收割

来源:力学研究所

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