不同碱和分散剂对蓝宝石基片研磨的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张泽芳 ; 刘卫丽 ; 宋志棠 |
| 刊名 | 半导体技术
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| 出版日期 | 2012 |
| 期号 | 4页码:267-270 |
| 关键词 | 多晶金刚石 三乙醇胺 分散剂 蓝宝石 研磨 |
| ISSN号 | 1003-353X |
| 中文摘要 | 在LED制造工艺中,金刚石研磨液是一种关键的耗材,用于蓝宝石衬底的研磨和外延片的背减薄,但目前金刚石研磨液均以有机物作为分散介质。采用水为分散介质、多晶金刚石微粉为磨料,在相同研磨条件下,研究了不同种类的碱和分散剂对蓝宝石研磨性能的影响。分别采用分析天平称重法和原子力显微镜测试了研磨速率和蓝宝石的表面粗糙度。结果表明,抛光后蓝宝石表面质量和抛光液分散性有严格的依赖关系,而抛光速率和研磨液分散性并不严格相关。最后,采用三乙醇胺为pH值调节剂,Orotan1124为分散剂,获得了相对较高的去除率和较好的表面质量。 |
| 收录类别 | CNKI2012-068 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-02-22 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/111032]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张泽芳,刘卫丽,宋志棠. 不同碱和分散剂对蓝宝石基片研磨的影响[J]. 半导体技术,2012(4):267-270. |
| APA | 张泽芳,刘卫丽,&宋志棠.(2012).不同碱和分散剂对蓝宝石基片研磨的影响.半导体技术(4),267-270. |
| MLA | 张泽芳,et al."不同碱和分散剂对蓝宝石基片研磨的影响".半导体技术 .4(2012):267-270. |
入库方式： OAI收割
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