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InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)

文献类型:期刊论文

作者王凯 ; 顾溢 ; 方祥 ; 周立 ; 李成 ; 李好斯白音 ; 张永刚
刊名红外与毫米波学报
出版日期2012
期号5页码:385-388+398
关键词化合物半导体 分子束外延 InAlGaAs X射线衍射 光致发光
ISSN号1001-9014
中文摘要采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着Al组分的增加,样品的光致发光强度、电子浓度和迁移率均有所下降.样品的三族元素组分由光致发光及X射线衍射实验获得,测试结果与设计值吻合,Al组分的实验设计值与测试结果的关系提供了一种实用的精确控制组分的方法.
收录类别CNKI2012-156
语种中文
公开日期2013-02-22
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/111053]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
王凯,顾溢,方祥,等. InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)[J]. 红外与毫米波学报,2012(5):385-388+398.
APA 王凯.,顾溢.,方祥.,周立.,李成.,...&张永刚.(2012).InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文).红外与毫米波学报(5),385-388+398.
MLA 王凯,et al."InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)".红外与毫米波学报 .5(2012):385-388+398.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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