KF-AlF_3系溶剂组成对KBF_4与Al熔体界面反应的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 王青亮 ; 赵洪生 ; 沈利 ; 栗争光 ; 赵九洲 |
刊名 | 金属学报
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出版日期 | 2012-06-11 |
期号 | 6页码:739-743 |
关键词 | Al KBF_4 AlF_3 界面反应 溶剂组成 |
中文摘要 | 研究了不同组成的KF-AlF3系溶剂对KBF_4与Al熔体界面反应的影响.结果表明,采用不同组成的KF-AlF_3系溶剂时,在氟化盐/Al界面处均有铝硼化合物层形成;当采用共晶成分或过共晶成分KF-AlF_3溶剂时,铝硼化合物层与Al之间存在的AlF_3可使铝硼化合物层与Al局部或完全脱离;当采用亚共晶成分KF-AlF_3溶剂时,在氟化盐/Al界面处未观察到AlF_3存在.对不同组成KF-AlF_3系溶剂和KBF_4的反应过程进行了研究,分析了氟化盐/Al界面处AlF_3的形成机理。 |
公开日期 | 2013-02-23 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/60705] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王青亮,赵洪生,沈利,等. KF-AlF_3系溶剂组成对KBF_4与Al熔体界面反应的影响[J]. 金属学报,2012(6):739-743. |
APA | 王青亮,赵洪生,沈利,栗争光,&赵九洲.(2012).KF-AlF_3系溶剂组成对KBF_4与Al熔体界面反应的影响.金属学报(6),739-743. |
MLA | 王青亮,et al."KF-AlF_3系溶剂组成对KBF_4与Al熔体界面反应的影响".金属学报 .6(2012):739-743. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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