Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 时婧 ; 裴志亮 ; 宫骏 ; 孙超 ; MUDERS C M ; 姜辛 |
| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 2012-11-11 |
| 期号 | 11页码:1349-1356 |
| 关键词 | 磁过滤电弧离子镀 Ti-Al-Si-N薄膜 纳米硬度 结合强度 |
| 中文摘要 | 利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜,研究了Si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响.结果表明,Ti-Al-Si-N薄膜主要由晶态TiAlN和非晶态的Si_3N_4组成,随着Si含量的增加,XRD衍射峰强度减弱,晶粒尺寸减小;薄膜的显微组织也由明显的柱状晶转变为致密的纳米晶结构.利用纳米硬度仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了分析,结果表明,薄膜的硬度和弹性模量有着相似的变化趋势,随着Si含量的增加,两者都先增加,当Si含量达到一定程度时.它们会逐渐稳定在一定范围内,而后又随Si含量的继续增加呈下降趋势.通过划痕测试对薄膜结合强度进行了分析,结果表明,薄... |
| 公开日期 | 2013-02-23 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/60737]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 时婧,裴志亮,宫骏,等. Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响[J]. 金属学报,2012(11):1349-1356. |
| APA | 时婧,裴志亮,宫骏,孙超,MUDERS C M,&姜辛.(2012).Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响.金属学报(11),1349-1356. |
| MLA | 时婧,et al."Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响".金属学报 .11(2012):1349-1356. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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