Femtosecond laser lithography technique for submicron T-gate fabrication on positive photoresist
文献类型：期刊论文
| 作者 | Du, YD ; Han, WH ; Yan, W ; Xu, XN ; Zhang, YB ; Wang, XD ; Yang, FH ; Cao, HZ ; Jin, F ; Dong, XZ ; Zhao, ZS ; Duan, XM ; Liu, Y |
| 刊名 | optical engineering
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| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 51期号:5页码:54303 |
| 学科主题 | 光电子学 |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-03-17 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23604]  |
| 专题 | 半导体研究所_半导体集成技术工程研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Du, YD,Han, WH,Yan, W,et al. Femtosecond laser lithography technique for submicron T-gate fabrication on positive photoresist[J]. optical engineering,2012,51(5):54303. |
| APA | Du, YD.,Han, WH.,Yan, W.,Xu, XN.,Zhang, YB.,...&Liu, Y.(2012).Femtosecond laser lithography technique for submicron T-gate fabrication on positive photoresist.optical engineering,51(5),54303. |
| MLA | Du, YD,et al."Femtosecond laser lithography technique for submicron T-gate fabrication on positive photoresist".optical engineering 51.5(2012):54303. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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