氢化非晶硅薄膜的稳定性研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 盛殊然 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 1997 |
| 授予单位 | 中国科学院半导体研究所 |
| 授予地点 | 北京 |
| 导师 | 孔光临 ; 廖显伯 |
| 英文摘要 | Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-04-13T11:45:31Z; Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-04-13T11:45:31Z |
| 学科主题 | 半导体物理与半导体器件物理 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-04-13 ; 2010-10-15 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/4495]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 盛殊然. 氢化非晶硅薄膜的稳定性研究[D]. 北京. 中国科学院半导体研究所. 1997. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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