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PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响

文献类型:期刊论文

作者刘星元
刊名发光学报
出版日期2011-09-15
期号09页码:929-933
关键词有机电致发光器件 PrF3 空穴缓冲层 功函数
公开日期2013-03-11
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/27293]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
刘星元. PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响[J]. 发光学报,2011(09):929-933.
APA 刘星元.(2011).PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响.发光学报(09),929-933.
MLA 刘星元."PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响".发光学报 .09(2011):929-933.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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