PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 刘星元![]() |
刊名 | 发光学报
![]() |
出版日期 | 2011-09-15 |
期号 | 09页码:929-933 |
关键词 | 有机电致发光器件 PrF3 空穴缓冲层 功函数 |
公开日期 | 2013-03-11 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/27293] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘星元. PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响[J]. 发光学报,2011(09):929-933. |
APA | 刘星元.(2011).PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响.发光学报(09),929-933. |
MLA | 刘星元."PrF_3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响".发光学报 .09(2011):929-933. |
入库方式: OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。