离子辅助沉积法制备SiO_2介质薄膜的应力研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张金龙 ; 宁永强
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| 刊名 | 发光学报
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| 出版日期 | 2012-12-15 |
| 期号 | 12页码:1304-1308 |
| 关键词 | 离子辅助沉积 SiO2薄膜 应力 退火 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/27913]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张金龙,宁永强. 离子辅助沉积法制备SiO_2介质薄膜的应力研究[J]. 发光学报,2012(12):1304-1308. |
| APA | 张金龙,&宁永强.(2012).离子辅助沉积法制备SiO_2介质薄膜的应力研究.发光学报(12),1304-1308. |
| MLA | 张金龙,et al."离子辅助沉积法制备SiO_2介质薄膜的应力研究".发光学报 .12(2012):1304-1308. |
入库方式： OAI收割
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