全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律
文献类型：期刊论文
| 作者 | 韩建 ; 巴音贺希格 ; 李文昊 ; 孔鹏 |
| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2012-03-10 |
| 期号 | 03页码:9-15 |
| 关键词 | 光栅 曝光量 条纹对比度 占宽比 槽深 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/27992]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 韩建,巴音贺希格,李文昊,等. 全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律[J]. 光学学报,2012(03):9-15. |
| APA | 韩建,巴音贺希格,李文昊,&孔鹏.(2012).全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律.光学学报(03),9-15. |
| MLA | 韩建,et al."全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律".光学学报 .03(2012):9-15. |
入库方式： OAI收割
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