碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张峰 ; 邓伟杰
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| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2012-11-10 |
| 期号 | 11页码:194-199 |
| 关键词 | 光学制造 磁介质辅助抛光 去除函数 硅改性层 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28061]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张峰,邓伟杰. 碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光[J]. 光学学报,2012(11):194-199. |
| APA | 张峰,&邓伟杰.(2012).碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光.光学学报(11),194-199. |
| MLA | 张峰,et al."碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光".光学学报 .11(2012):194-199. |
入库方式： OAI收割
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