碳化硅表面硅改性层的特性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 范镝 ; 高劲松; 张峰
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| 刊名 | 激光与光电子学进展
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| 出版日期 | 2012-03-10 |
| 期号 | 03页码:141-145 |
| 关键词 | 光学表面 碳化硅 表面改性 离子束辅助沉积 表面粗糙度 表面反射率 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28062]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 范镝,高劲松,张峰. 碳化硅表面硅改性层的特性研究[J]. 激光与光电子学进展,2012(03):141-145. |
| APA | 范镝,高劲松,&张峰.(2012).碳化硅表面硅改性层的特性研究.激光与光电子学进展(03),141-145. |
| MLA | 范镝,et al."碳化硅表面硅改性层的特性研究".激光与光电子学进展 .03(2012):141-145. |
入库方式： OAI收割
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