157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 臧春雨 ; 曹望和 ; 石春山 |
| 刊名 | 材料导报
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| 出版日期 | 2003-06-15 |
| 期号 | 06页码:34-36 |
| 关键词 | 半导体制造业 157nm紫外光刻技术 CaF_2晶体 双折射 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28359]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 臧春雨,曹望和,石春山. 157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展[J]. 材料导报,2003(06):34-36. |
| APA | 臧春雨,曹望和,&石春山.(2003).157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展.材料导报(06),34-36. |
| MLA | 臧春雨,et al."157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展".材料导报 .06(2003):34-36. |
入库方式： OAI收割
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