氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 汤庆鑫 ; 路丽霞 ; 齐秀英 ; 钟殿强 ; 初国强 ; 刘益春 |
| 刊名 | 发光学报
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| 出版日期 | 2003-06-30 |
| 期号 | 03页码:284-288 |
| 关键词 | 等离子辅助 电子束蒸发 光致发光 热氧化 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28501]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 汤庆鑫,路丽霞,齐秀英,等. 氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜[J]. 发光学报,2003(03):284-288. |
| APA | 汤庆鑫,路丽霞,齐秀英,钟殿强,初国强,&刘益春.(2003).氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜.发光学报(03),284-288. |
| MLA | 汤庆鑫,et al."氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜".发光学报 .03(2003):284-288. |
入库方式： OAI收割
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