同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈波 ; 巩岩; 尼启良
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| 刊名 | 高能物理与核物理
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| 出版日期 | 2005-11-21 |
| 期号 | 11页码:82-84 |
| 关键词 | 同步辐射光源 掠出射 X射线荧光 薄膜 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28588]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈波,巩岩,尼启良. 同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚[J]. 高能物理与核物理,2005(11):82-84. |
| APA | 陈波,巩岩,&尼启良.(2005).同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚.高能物理与核物理(11),82-84. |
| MLA | 陈波,et al."同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚".高能物理与核物理 .11(2005):82-84. |
入库方式： OAI收割
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