软X射线投影光刻技术及其发展(续)
文献类型：期刊论文
| 作者 | 金春水
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| 刊名 | 物理实验
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| 出版日期 | 2002-06-25 |
| 期号 | 06页码:3-6 |
| 关键词 | 软X射线:6714 投影光刻:5104 多层膜:4818 反射式:1137 光刻胶:1091 软X射线照射:949 掩膜技术:901 反射率:875 光学系统:601 易氧化材料:561 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28740]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 金春水. 软X射线投影光刻技术及其发展(续)[J]. 物理实验,2002(06):3-6. |
| APA | 金春水.(2002).软X射线投影光刻技术及其发展(续).物理实验(06),3-6. |
| MLA | 金春水."软X射线投影光刻技术及其发展(续)".物理实验 .06(2002):3-6. |
入库方式： OAI收割
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